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半导体电池片行业清洗设备
1、清洗
清洗的目的：
①去除硅片表面的机械损伤层。
②对硅片的表面进行凹凸面(金字塔绒面）处理，增加光在太阳电池片表面的折射次数，利于太阳电池片对光的吸收，以达到电池片对太阳能价值的最大利用率。
③清除表面硅酸钠、氧化物、油污以及金属离子杂质。
化学清理原理：
①HF去除硅片表面氧化层。
②HCl去除硅片表面金属杂质：盐酸具有酸和络合剂的双重作用，氯离子能与溶解片子表面可能沾污的杂质，铝、镁等活泼金属及其它氧化物。但不能溶解铜、银、金等不活泼的金属以及二氧化硅等难溶物质。
安全提示：NaOH、HCl、HF都是强腐蚀性的化学药品，其固体颗粒、溶液、蒸汽会伤害到人的皮肤、眼睛、呼吸道，所以操作人员要按照规定穿戴防护服、防护面具、防护眼镜、长袖胶皮手套。一旦有化学试剂伤害了员工的身体，马上用纯水冲洗30分钟，送医院就医。

2、制绒
制绒的目的：减少光的反射率，提高短路电流（Isc），最终提高电池的光电转换效率。
制绒的原理：利用低浓度碱溶液对晶体硅在不同晶体取向上具有不同腐蚀速率的各向异性腐蚀特性，在硅片表面腐蚀形成角锥体密布的表面形貌，就称为表面织构化。角锥体四面全是由〈111〉面包围形成。
反应式为：Si+2NaOH+H2O→Na2SiO3+2H2↑
影响绒面的因素：
①NaOH浓度
②无水乙醇或异丙醇浓度
③制绒槽内硅酸钠的累计量
④制绒腐蚀的温度
⑤制绒腐蚀时间的长短
⑥槽体密封程度、乙醇或异丙醇的挥发程度

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