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东莞五金电池片等离子刻蚀技术工艺

由于在扩散过程中，即使采用背靠背扩散，硅片的所有表面包括边缘都将不可避 免地扩散上磷。PN 结的正面所收集到的光生电子会沿着边缘扩散有磷的区域流 到 PN 结的背面，而造成短路。因此，必须对太阳能电池周边的掺杂硅进行刻蚀， 以去除电池边缘的 PN 结。通常采用等离子刻蚀技术完成这一工艺。
等离子刻蚀是在低压状态下，反应气体 CF4 的母体分子在射频功率的激发下，产 生电离并形成等离子体。等离子体是由带电的电子和离子组成，反应腔体中的气 体在电子的撞击下，除了转变成离子外，还能吸收能量并形成大量的活性基团。 活性反应基团由于扩散或者在电场作用下到达 SiO2 表面，在那里与被刻蚀材料 表面发生化学反应，并形成挥发性的反应生成物脱离被刻蚀物质表面，被真空系 统抽出腔体。

生产广州电池片的工艺比较复杂，一般要经过硅片检测、表面制绒、扩散制结、去磷 硅玻璃、 等离子刻蚀、 镀减反射膜、 丝网印刷、 快速烧结和检测分装等主要步骤。